光聲光譜分析儀：潔凈室 AMC 監測的 “超靈敏 + 低維護” 新選擇

在潔凈室生產環境中，氣態分子污染物（AMC）的精準監測是保障產能的關鍵環節。DKG ONE-CF4光聲光譜痕量四氟化碳氣體分析儀，憑借創新技術與性能，為潔凈室CF4污染物監測提供了高效、穩定且低成本的解決方案，重新定義痕量氣體監測標準。

核心技術：雙重創新筑牢監測精度基石

DKG ONE-CF4光聲光譜痕量四氟化碳氣體分析儀的精準監測能力，源于兩項核心技術的深度融合，從根源上突破傳統設備局限：

1.超靈敏探測系統：搭載超靈敏光學懸臂梁麥克風，結合激光干涉儀可精準捕捉懸臂梁微觀運動；搭配分布式反饋量子級聯激光（QCL）光源，精準聚焦CF4中紅外基本光譜吸收峰，能無延遲探測微小濃度的CF4噴濺或溢出，監測下限（LoD）低于0.1 ppb，實現痕量污染物“零遺漏”。

2.穩定無漂移設計：采用直接吸收式檢測原理，具備“零背景”特性，無需依賴任何耗材或化學試劑。在運行過程中，即使環境溫度、樣品壓力在規定范圍內變化，也不會引發設備漂移，重新校準周期可長達數月甚至數年，擺脫頻繁校準的困擾。

核心優勢：多維度滿足潔凈室監測需求

從監測效率到運維成本，DKG ONE-CF4光聲光譜痕量四氟化碳氣體分析儀適配潔凈室復雜場景，為用戶創造多重價值：

監測性能好：響應時間可靈活設置（5秒-3分鐘），能快速捕捉污染物濃度突發上升；動態量程超5個數量級（為檢測下限的100,000倍），單點校準即可達到業內水平；且具備高選擇性，不受乙醛及其他VOC干擾，確保數據精準可靠。

操作靈活便捷：提供三種機箱方案適配不同場景——單氣體分析機型配備高分辨率顯示屏與旋轉按鈕，界面直觀易懂；可選便攜式外箱，便于可預見泄漏區域的移動檢測；多單元可整合為移動式監測系統，能快速轉移至不同關鍵測點，實現覆蓋。

運維成本極低：內置氣體交換泵與氣體交換系統，樣品需求量僅幾毫升，大幅減少氣體消耗；無耗材設計省去更換成本，長達數年的校準間隔降低人工與時間投入；19”3U外殼適配臺式或機架安裝，節省潔凈室空間。

硬核參數：全場景適配工業需求

在通用性能與環境適應性上，DKG ONE-CF4光聲光譜痕量四氟化碳氣體分析儀契合工業潔凈室的嚴苛標準，保障穩定運行：

通用配置全面：內置計算機與7英寸寬屏顯示器，支持數字式與圖線式結果顯示；數據存儲量充足，在最短采樣間隔下可連續存儲一年數據；接口豐富，涵蓋以太網、USB，可選RS485、RS232、電流輸出、電壓輸出、MODBUS及AK協議，還能通過手機、平板、電腦遠程控制，操作便捷。

環境適應性強：運行溫度覆蓋0℃-49℃，儲存溫度范圍-20℃-60℃；在750mbar-1050mbar壓力、無凝露環境下可穩定工作（溫度達35℃時最大相對濕度80%，溫度達49℃時線性下降至35%）；防塵防水等級達IP20（IEC 529），適配多數工業潔凈室環境。

合規性有保障：嚴格符合低電壓指令2014/35/EU、EMC指令2004/108/EC及ROHS 2指令2011/65/EU，在安全性、電磁兼容性與環保性上均達到行業規范，可放心投入工業生產場景。

應用價值：為潔凈室產能保駕護航

潔凈室污染物水平直接影響生產質量與產能，DKG ONE-CF4光聲光譜痕量四氟化碳氣體分析儀通過準確、可靠、低維護的AMC監測，可實時掌控CF4污染物濃度，避免因泄漏導致的生產損失。其獨立運行特性與靈活的安裝、移動方案，可廣泛應用于半導體、電子制造、精密化工等依賴潔凈室生產的行業，為企業降本增效、提升核心競爭力提供關鍵技術支撐。